Principi de funcionament:
Dins d'una cambra de buit, s'utilitza un camp magnètic per limitar una descàrrega brillant, fent que els ions d'argó bombardin el material objectiu a altes velocitats, els àtoms objectiu s'escampen i es dipositen a la superfície de la peça per formar una pel·lícula fina densa-un procés classificat com a deposició física de vapor (PVD).
Característiques de l'equip
Compatible amb diversos tipus d'objectius de pulverització
Admet objectius de polverització de magnetron DC, MF i RF, s'adapta tant a objectius de ceràmica metàl·lica com d'òxid, permetent la deposició de pel·lícules dielèctriques tant metàl·liques com aïllants.
Mecanisme de revolució i rotació del substrat
El bastidor de peces de treball utilitza un sistema de rotació planetari, que permet que les peces de treball dins del forn giren i giren simultàniament, això garanteix una excel·lent uniformitat del gruix de la pel·lícula a tota la càrrega del forn i minimitza la variació de color.
Sistema de pretractament d'ions a -baixa temperatura
Equipat amb una font de neteja d'ions-integrada, el sistema bombardeja la superfície de la peça amb plasma abans del recobriment per eliminar els contaminants d'oli i les capes d'òxid. Permet la deposició de pel·lícules a baixa-temperatura amb un escalfament mínim del substrat, per la qual cosa és adequat per processar plàstics sensibles a la calor-com ara ABS i PC sense causar cremades ni deformacions.
Configuració independent de la unitat de buit
Combinació d'una bomba turbomolecular, una bomba Roots i una bomba de paletes rotatives, assegurant una corba de bombeig estable.
Sistema de control industrial PLC totalment automàtic
L'automatització del procés, les receptes del procés es poden emmagatzemar i recuperar amb un sol clic.
Control de precisió del flux de gas
Utilitza diversos controladors de flux massiu (MFC) per regular amb precisió els gasos reactius com l'argó, l'oxigen i el nitrogen, el que el fa adequat per a la deposició reactiva de polverització de pel·lícules compostes d'òxid i nitrur.
Protecció de bloqueig de seguretat
Inclou enclavaments per a la porta de la cambra i el sistema de buit, així com proteccions contra la sobrecàrrega, l'escassetat d'aigua i la fallada elèctrica, apagada automàtica en detectar anomalies per protegir la font objectiu i el sistema de buit.
Aplicacions:
Revestiment decoratiu
Estoigs de rellotges, ferreteria de bany, caps de pals de golf, manualitats, joguines, reflectors de fars d'automòbils i carcasses i botons per a telèfons mòbils o electrodomèstics. Capaç de produir recobriments decoratius d'imitació d'or, negre canya, ultra-negre i de colors, serveix com a alternativa eco-ecològica i lliure de contaminació-a la galvanoplastia tradicional-a base d'aigua.
Substrats compatibles: plàstic ABS, vidre, ceràmica, rajoles i metalls diversos.
Pel·lícules funcionals
Motlles i eines: recobriments protectors-resistents al desgast per a eines de tall i motlles/encunys














Avantatges
El gruix de la pel·lícula és controlable i repetible.
Pot dipositar de manera fiable una pel·lícula d'un gruix predeterminat, i el recobriment de pulverització pot obtenir un gruix de pel·lícula uniforme en una superfície gran.
La pel·lícula té una forta adhesió al substrat.
Alguns àtoms d'alta energia-polvorejats produeixen diferents graus d'injecció, formant una pseudo-capa de difusió sobre el substrat on els àtoms polveritzats i els àtoms del substrat es fusionen entre si.
Preparació de pel·lícules primes de materials especials.
Les pel·lícules mixtes i les pel·lícules compostes es poden preparar mitjançant la catògrafa de diferents materials al mateix temps. També es poden escampar pel·lícules d'or d'imitació TiN.
La pel·lícula té una puresa elevada i la pel·lícula sputtered no es barrejarà amb els components del material de l'escalfador del gresol.
Equipat amb una font auxiliar d'ions de baixa -temperatura, pot formar pel·lícules mitjançant un revestiment en fred a temperatura ambient sense escalfar, estalviant energia i electricitat i millorant la capacitat de producció.
Especificació:
|
Màquina de recobriment per polverització de magnetrón |
|||||||
|
Model |
CJ-600 |
CJ-800 |
CJ-1000 |
CJ-1200 |
CJ-1400 |
CJ-1500 |
CJ-1600 |
|
Mida de la cambra |
Φ600×800MM |
Φ800×1000MM |
Φ1000×1200MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1500×1500MM |
Φ1600×1800MM |
|
Unitat de buit |
Unitat de bomba de difusió KT400 |
Unitat de bomba de difusió KT500 |
Unitat de bomba de difusió KT800 |
Unitat de bomba de difusió KT630 |
Unitat de bomba de difusió doble KT630 |
Unitat de bomba de difusió doble KT630 |
Unitat de bomba de difusió doble KT630 |
|
Sistema de recobriment |
Font d'alimentació de CC o de freqüència mitjana, font d'alimentació especial d'ions auxiliars de recobriment |
||||||
|
Sistema d'inflació |
Mesurador de cabal |
||||||
|
Mètode de control |
Manual o totalment automàtic |
||||||
|
El buit definitiu |
5X10-3Pa |
||||||
|
Observació |
Els paràmetres de l'equip anteriors són només de referència i estan dissenyats i personalitzats segons els requisits reals del procés dels clients. |
||||||
Etiquetes populars: Màquina de recobriment de magnetron sputtering, fabricants de màquines de recobriment de magnetron sputtering de la Xina, proveïdors, fàbrica
