Hi ha molts models deequip de recobriment al buit iònic, els més comuns són els equips de recobriment d'ions d'arc catòdic, els equips de recobriment d'ions d'acer inoxidable (grans i petits) i els equips de recobriment d'ions per a rajoles de bany, tots els quals utilitzen la tecnologia de recobriment al buit d'ions multi-arc.
En condicions de buit, la descàrrega de gas s'utilitza per ionitzar gas o material evaporat. Simultàniament, el material evaporat o els seus reactius es dipositen sobre un substrat pel bombardeig d'aquests ions gasosos o ions del material evaporat.
El revestiment d'ions combina descàrrega brillant, tecnologia de plasma i tecnologia de recobriment per evaporació al buit.
El revestiment d'ions al buit és una tecnologia de recobriment que combina l'evaporació al buit i la pulverització al buit. El procés de revestiment d'ions consisteix a utilitzar una descàrrega de gas en condicions de buit per ionitzar parcialment el gas de treball o el material a evaporar (material de pel·lícula). Sota el bombardeig d'ions del gas de treball o del material a evaporar, el material evaporat o els seus reactius es dipositen a la superfície del substrat.
El recobriment té una bona adherència, la pel·lícula no és fàcil de caure, el recobriment té bones propietats d'embolcall, la cobertura de la superfície es millora, la qualitat del recobriment és bona, la velocitat de deposició és alta, la velocitat de formació de la pel·lícula és ràpida i la gamma de materials de substrat i materials de pel·lícula als quals s'aplica el recobriment és àmplia.
Els equips de recobriment al buit d'ions presenten nombrosos avantatges, que donen lloc a la seva aplicació generalitzada al mercat. Les aplicacions habituals inclouen recobriments súper durs per a eines i motlles, i recobriments decoratius per a equips de golf, rellotges, accessoris de bany, accessoris d'il·luminació, marcs d'ulleres, productes de ferreteria, ceràmica i vidre. És un sistema de recobriment d'ions altament eficient i lliure de contaminació-, caracteritzat per una ràpida deposició, una alta taxa d'ionització, una gran energia iònica, un funcionament senzill, un baix cost i una gran capacitat de producció.
